CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术是用于获取高质量的玻璃表面,如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM的制造中,而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM的生产中以后,三酸抛光厂家,CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法,CMP通过化学的和机械的综合作用,从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理,即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。
上述两种抛光作用是不同的,以钢在磷酸型抛光液中的抛光为例说明。在抛光过程中钢的电极电位和溶解速度随浓度的变化情况如图4-2所示。即随着浓度的增加,钢材的电极电位也逐渐提高,同时溶解速度随之减小。钢的平滑化是由低电位区域的溶解作用形成的,而光泽化则是由高电位区域的溶解作用形成的。钢表面电位的升高是由表面形成的一些稳定的氧化膜固体所致,正是由于这种稳定氧化膜的形成,使零件光泽化。而平滑化可能是由金属离子或溶解生成物的扩散层导致的。
化学抛光是在不供电情况下产生抛光效果,其抛光原理与利用电流作用的电解抛光在本质上没有太大差别。化学抛光效果一般要比电解抛光效果差,在化学抛光中,由于材料的质量不均匀,齐齐哈尔三酸抛光,会引起局部电位高低不一,产生局部阴阳极区,三酸抛光工艺,形成局部短路的微电池,三酸抛光价格,使阳极发生局部溶解。而在电解抛光中由于外加电位的作用可以完全消除这种局部的阴极区,进行的电解,因此效果更好。
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更新:2019-11-18 12:32 浏览:1次- 发布企业
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- 昆山市千灯镇石浦卫泾大街51号
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成立日期 | 2011年06月09日 | ||
法定代表人 | 武江涛 | ||
注册资本 | 1000万元人民币 | ||
登记机关 | 昆山市市场监督管理局 | ||
主营产品 | 化工原料及产品,五金材料,化学试剂 | ||
经营范围 | 危险化学品其他经营(按《危险化学品经营许可证》许可经营范围经营,不得储存);化工原料及产品、化学试剂、染料、实验器材、印刷材料、五金电镀氧化处理材料、磨具设备及磨料、五金材料、卫浴建材、塑胶制品、普通机械、交电、电子产品、纺织品、日用百货、润滑油的销售;从事货物及技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
公司简介 | 昆山市韩铝化学表面材料有限公司成立于2011年6月。由上海龙昱化工有限公司和韩国韩铝化学会社共同合作而设立的子公司。是专业生产及销售铝阳极氧化系列药i水、机械抛光材料的专业公司。集开发、生产、销售及服务于一体的技术型企业。主要生产由韩国韩铝化学会社提供技术合作的铝氧化用封孔剂、无黄烟镜面光亮剂、自动线化学抛光剂、化学抛光稳定剂、铝皮膜除灰剂、化学打砂剂、氧化油墨、除油粉、脱脂剂、脱漆剂、化妆品铝件 ... |
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